7N电子级氨气

所属分类：氨气

发布日期：2025-01-23 14:37:07

来源：洛阳宏昌工贸有限公司

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7N电子级氨气的用途

一、半导体制造

1. 化学气相沉积（CVD）：电子级氨气作为氮源，用于沉积氮化物薄膜，如氮化硅（Si₃N₄）、氮化铝（AlN）等，这些薄膜广泛用于绝缘层、保护层和导电材料。
2. 清洗与蚀刻：氨气可用于清洗晶圆表面的有机物和金属杂质，并在蚀刻工艺中与其他气体结合，去除表面氧化层。
3. 氮掺杂：氨气作为氮源，用于离子注入和掺杂工艺，改变半导体材料的电学性能。

二、光电子领域

电子级氨气是光电子制造的关键材料，用于半导体照明、液晶显示面板和太阳能电池的生产。它在MOCVD（金属有机化学气相沉积）工艺中用于制备氮化镓等材料。在OLED和MiniLED等新型显示技术中，电子级氨气用于材料生长和表面处理，确保产品的光学性能。

三、新能源领域

在锂离子电池和燃料电池的制造中，电子级氨气用于电极材料的制备和表面处理，提高电池性能和安全性。随着氢能产业的发展，电子级氨气作为氢气的重要来源，展现出巨大的应用潜力。

四、其他应用

电子级氨气还可用于精细化工，如催化剂生产、医药中间体合成等。

7N电子级氨气产品技术指标
项目/组份		含量
氨（NH₃）纯度（体积分数）/10^-2	≥	99.99999
氢（H₂）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.01
氧+氩（O₂+Ar）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.01
氮（N₂）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.01
一氧化碳（CO）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.01
二氧化碳（CO₂）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.01
烃（C_1~C₃）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.01
水分（H₂O）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.01
总杂质含量（体积分数）/10^-6	≤	0.1

7N电子级氨气重金属杂质技术指标
重金属含量/10^-6（质量分数）		气相	液相
锑（Sb）	＜	0.005	0.005
镉（Cd）	＜	0.001	0.001
钙（Ca）	＜	0.01	0.05
铬（Cr）	＜	0.001	0.005
钴（Co）	＜	0.001	0.001
铜（Cu）	＜	0.005	0.01
镓（Ga）	＜	0.001	0.01
碲（Te）	＜	0.005	0.01
铅（Pb）	＜	0.001	0.001
锂（Li）	＜	0.001	0.001
镁(Mg)	＜	0.001	0.005
锰（Mn）	＜	0.001	0.005
钼（Mo）	＜	0.001	0.001
镍（Ni）	＜	0.001	0.01
钾（K）	＜	0.001	0.001
硅（Si）	＜	0.01	0.05
钠（Na）	＜	0.005	0.01
锡（Sn）	＜	0.001	0.005
锌（Zn）	＜	0.005	0.01
砷（As）	＜	0.001	0.005
锗（Ge）	＜	0.001	0.005
铁（Fe）	＜	0.005	0.01
磷（P）	＜	0.005	0.01